关于透射电子显微镜的制备
透射电子显微镜(TEM)是一种显微镜技术，在这种技术中，电子束通过超薄样品，在样品通过时与样品相互作用。
超薄标本
样品通常由一个直径3.0毫米的圆盘材料组成，该材料的一部分足够薄，可以让电子束完全穿透它。
允许的最大厚度随组成样品的元素(原子序数高的元素透射性较差)和束流加速电压(加速电压越高，束流穿透能力越强)的不同而不同，但通常在100到几百纳米的范围内。
用多种方法稀释标本，包括:
- 机械切割和研磨(用于样品制备的初步步骤)
- 电解抛光(通常用于金属的最终细化)
- 离子研磨(用于金属和绝缘材料)
至关重要的是，在初步机械制备过程中引入的任何损坏层在后续的电解抛光或离子铣削过程中被完全去除。
最后的细化过程继续进行，直到在圆盘中心附近首次形成一个孔;然后，电解抛光或离子铣削过程立即停止。与空穴相邻的材料的细锥形部分通常薄到足以成为电子透明。
如果电解抛光或离子铣削持续时间过长，则空穴附近的薄电子透明部分将被去除，剩下的材料可能因为太厚而无法被电子束穿透。
如何准备透射电子显微镜
机械切割和抛光
标本必须被切成小块，研磨和/或打磨到一定的厚度，通常在几百微米左右。
切割过程可以使用斯特鲁尔斯的切割机完成。推荐使用Accutom-10/-100或Secotom-15/-50等精密切割机。可使用任何Struers研磨或抛光机;推荐使用LaboSystem或Tegramin等单样或手动制备的机器。样品可以被研磨和/或打磨到一定的厚度。配件如AccuStop，或AccuStop- t带有特殊的tem准备插入件，也可以使用。
电解抛光
电解抛光可用于预稀释样品到所需的厚度，使用LectroPol-5或TenuPol-5与预稀释支架。
最后的准备阶段需要非常精确和灵敏的抛光，使用电解抛光机，如TenuPol-5。TenuPol-5可以用直径3.0或2.3毫米的样品在短短几分钟内制备用于透射电子显微镜的穿孔标本。
TenuPol-5设计用于在透射电子显微镜中检测的样品的自动电解稀释。直径为12-21毫米的基本材料在直径为10毫米的区域内预先稀释到厚度小于0.5毫米，使用特殊的试样夹。
电解质
Struers为最常见的材料提供现成的电解质，如:
